avatar

DAMAR RASTRI ADHIKA

Institut Teknologi Bandung S2 - Teknologi Nano SINTA ID : 6201814
1.488
SINTA Score Overall
518
SINTA Score 3Yr
1.488
Affil Score
518
Affil Score 3Yr
METODE PEMBUATAN NANOPATTERN PADA PERMUKAAN SUBSTRAT POLYDIMETHYLSILOXANE MENGGUNAKAN CETAKAN SILIKON HASIL FABRIKASI DENGAN FOCUSED ION BEAM
Inventor : Anggraini Barlian,Candrani Khoirinaya,Damar Rastri Adhika,Suprijadi Haryono Institut Teknologi Bandung
2020 Nomor Permohonan : P00202010529 Paten
KOMPOSISI BAHAN SABUN CAIR PENCUCI NAJIS MUGHALLADZAH MENGANDUNG BENTONIT KONSENTRASI TINGGI DAN NANOEMULSI MINYAK ZAITUN SERTA PROSES PRODUKSINYA
Inventor : Adi Suwandi,Damar Rastri Adhika,Heni Rachmawati Institut Teknologi Bandung
2020 Nomor Permohonan : P00202008977 Paten
View more ...
Get More with SINTA Insight
Go to Insight

Summary

Article Quartile
Research Output
  Scopus GScholar WOS
Article 44 71 31
Citation 262 348 185
Cited Document 31 40 22
H-Index 10 12 9
i10-Index 12 13 8
G-Index 1 1 1
Get More with SINTA Insight

Go to Insight